衍射儀和散射系統(tǒng)
- 產(chǎn)品品牌: 布魯克 Bruker
- 產(chǎn)品產(chǎn)地: 德國(guó)
- 應(yīng)用領(lǐng)域: 水泥業(yè)、材料屬性、礦物與采礦、石油和天然氣等
- 產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 是極佳的多功能X射線衍射儀平臺(tái),可為您提供業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的技術(shù)組件，旨在幫助您對(duì)從粉末、多晶材料到外延多層薄膜的各種材料進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征
布魯克公司全新的D8 DISCOVER X射線衍射儀，材料研究領(lǐng)域的先進(jìn)X射線衍射系統(tǒng)。采用創(chuàng)造性的達(dá)芬奇設(shè)計(jì)，配備了集成化的DIFFRAC.SUITETM軟件，附件自動(dòng)識(shí)別、即插即用以及完全集成化的二維XRD2功能。這些特征使得用戶可以非常方便的在材料研究領(lǐng)域的不同應(yīng)用之間切換，包括：反射率測(cè)量(XRR)、高分辨測(cè)量(HRXRD)、掠入射(GID)、面內(nèi)掠入射(IP-GID)、小角散射(SAXS)以及殘余應(yīng)力和織構(gòu)分析。
主要應(yīng)用
高分辨XRD(HRXRD)
外延多層膜厚度
晶胞參數(shù)
晶格錯(cuò)配
組份
應(yīng)變及弛豫過(guò)程
橫向結(jié)構(gòu)
鑲嵌度
X射線反射率(XRR)
薄膜厚度
組份
粗造度
密度
孔隙度
倒易空間圖譜(RSM)
晶胞參數(shù)
晶格錯(cuò)配
組份
取向
弛豫
橫向結(jié)構(gòu)
面內(nèi)掠入射衍射 (in-plane GID)
掠入射小角X射線散射(GISAXS)
晶胞參數(shù)
晶格錯(cuò)配
橫向關(guān)聯(lián)性
取向
物相組成
孔隙度
應(yīng)力和織構(gòu)分析
取向分布
取向定量
應(yīng)變
外延關(guān)聯(lián)
硬度
物相鑒定(Phase ID)
物相組成
d值確定
擇優(yōu)取向
晶格對(duì)稱性
晶粒大小
D8 DISCOVER 規(guī)格 | ||
| 規(guī)格 | 優(yōu)勢(shì) |
TWIST-TUBE | 輕松在點(diǎn)焦點(diǎn)和線焦點(diǎn)之間切換 可用陽(yáng)極材料：Cr、Cu、Mo、Ag 最高功率和燈絲：最高3 kW，取決于陽(yáng)極材料（0.4 x 16mm2） 專利：EP 1 923 900 B1 | 快速改變波長(zhǎng)，以理想地匹配不同應(yīng)用
可以最快的速度在線焦點(diǎn)和點(diǎn)焦點(diǎn)之間極快切換，因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，并且可在更短的時(shí)間內(nèi)，獲得更好的結(jié)果。 |
IμS微焦源 | 功率負(fù)載：最高50 W，單相功率； MONTEL和MONTEL Plus光學(xué)器件：結(jié)合了平行鏡和聚焦鏡； 光束尺寸：低至180 x 180 μm2 鏡出口最大積分通量：8 x 10? cps； 光束發(fā)散度：低至0.5 mrad | 毫米大小的光束：高亮度和超低背景； 綠色環(huán)保設(shè)計(jì)：低功耗、無(wú)耗水、使用壽命更長(zhǎng)； 優(yōu)化光束形狀和發(fā)散，以獲得最佳結(jié)果；
|
Turbo X射線源（TXS） | 線焦點(diǎn)：0.3x3mm2； 焦點(diǎn)亮度：6 kW /mm2； 陽(yáng)極材料：Cu、Co、Cr、Mo； 最大電壓50 kV，功率取決于陽(yáng)極材料：Cr ：3.2 kW；Cu / Mo：5.4 kW；Co：2,8 kW； 預(yù)對(duì)準(zhǔn)鎢絲 | 強(qiáng)度是標(biāo)準(zhǔn)陶瓷X射線源的5倍； 是線焦點(diǎn)和點(diǎn)焦點(diǎn)應(yīng)用的理想之選； 預(yù)對(duì)準(zhǔn)的燈絲支持快速更換，極大地降低了對(duì)重新對(duì)準(zhǔn)的要求。 |
TRIO Optics | 軟件按鈕切換： 電動(dòng)發(fā)散狹縫（Bragg-Brentano）； 高強(qiáng)度Ka1,2平行光束； 高分辨率Ka1平行光束； 專利：US10429326、US6665372、US7983389 | 可在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行全自動(dòng)化電動(dòng)切換，無(wú)需人工干預(yù)； 是所有類型的樣品的理想之選，包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延） |
高分辨率單色器 | 對(duì)稱幾何和非對(duì)稱幾何中的Ge（220）和Ge（004）反射； 2-b和4-b（Bartels型）單色器； 利用SNAP.LOCK技術(shù)，進(jìn)行免對(duì)準(zhǔn)安裝。 | 在最佳分辨率與強(qiáng)度平衡方面，為您提供廣泛選擇，助您獲取最佳結(jié)果； 可快速更換單色器，針對(duì)不同樣品進(jìn)行優(yōu)化 |
D8測(cè)角儀 | 帶獨(dú)立步進(jìn)電機(jī)和光學(xué)編碼器的雙圓測(cè)角儀 | 布魯克獨(dú)有的準(zhǔn)直保證，確保了無(wú)與倫比的準(zhǔn)確性和精確度； 絕對(duì)免維護(hù)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)/齒輪裝置，終身潤(rùn)滑 |
UMC樣品臺(tái)
| 樣品臺(tái)系列 x、y：最大+/- 150 mm的樣品移動(dòng)； z：最大移動(dòng)50mm； Phi：旋轉(zhuǎn)不受限制； Psi：傾斜度最高55°； 最大承載重量（中心位置）：50kg | 在樣品的重量和尺寸方面，擁有無(wú)與倫比的優(yōu)勢(shì)； 可實(shí)現(xiàn)大型定制樣品室的實(shí)施 |
Centric Eulerian Cradle (CEC) | 樣品臺(tái)：5個(gè)自由度 x、y：+/- 40 mm樣品移動(dòng) z：高度對(duì)準(zhǔn) Phi：360°旋轉(zhuǎn) Psi：-11°-98° 最高承載重量：1kg 提供各種樣品臺(tái)附件。 | 側(cè)面傾斜時(shí)可進(jìn)行應(yīng)力和織構(gòu)測(cè)量，以獲取更高的精度。 （x，y）：自動(dòng)映射功能。 電動(dòng)傾斜臺(tái)：可精確調(diào)整表面。 粉末或毛細(xì)管旋轉(zhuǎn)器：可用于粉末衍射。 Bayonette樣品臺(tái)支持器：可與其他樣品臺(tái)快速、可重復(fù)地互換。 |
Pathfinder Plus Optics | 軟件按鈕切換： 電動(dòng)狹縫 2-b Ge分析晶體 集成自動(dòng)吸收器 | 可在兩種不同的光學(xué)器件之間全自動(dòng)地進(jìn)行電動(dòng)切換，無(wú)需人工干預(yù)。 保持了LYNXEYE探測(cè)器的完整視野。 利用吸收器，確保了測(cè)得數(shù)據(jù)的線性。 |
LYNXEYE XE-T | 能量分辨率： 8 KeV時(shí)，<380 eV 檢測(cè)模式：0D、1D、2D 波長(zhǎng)：Cr、Co、Cu、Mo和Ag 專利：EP1647840、EP1510811、US20200033275 | 無(wú)需K?過(guò)濾器和二級(jí)單色器 銅輻射即可100％過(guò)濾鐵熒光 速度比傳統(tǒng)探測(cè)器系統(tǒng)快450倍 Bragg2D：使用發(fā)散的初級(jí)線束收集2D數(shù)據(jù) 獨(dú)一無(wú)二的探測(cè)器保修：交貨時(shí)絕無(wú)不良通道 |
EIGER2 | Dectris Ltd.開(kāi)發(fā)的基于混合光子計(jì)數(shù)技術(shù)的新一代探測(cè)器，支持多種模式（0D / 1D / 2D）。 | 在分步掃描、連續(xù)掃描和高級(jí)掃描模式中無(wú)縫集成0D、1D和2D檢測(cè)。 符合人體工程學(xué)的免對(duì)準(zhǔn)探測(cè)器旋轉(zhuǎn)功能，可優(yōu)化γ或2?角度范圍 使用完整的探測(cè)器視野、免工具全景衍射光束光學(xué)系統(tǒng) 連續(xù)可變的探測(cè)器位置，以平衡角度范圍和分辨率 |
非環(huán)境 | 溫度：范圍從~-4 K到~2500 K 壓力：10-?mbar至100 bar 濕度：5％至95％ | 在環(huán)境和非環(huán)境條件下進(jìn)行調(diào)查 憑借DIFFRAC.DAVINCI，輕松更換樣品臺(tái) |
相關(guān)應(yīng)用圖片
1）在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。
2）使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。
3）候選材料鑒別(PMI)最為常見(jiàn),這是因?yàn)槠鋵?duì)原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無(wú)法通過(guò)元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn)。
4）在DIFFRAC.EVA中,進(jìn)行半定量分析,以顯示孔板上不同相的濃度。
5）在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測(cè)量同步，然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結(jié)果。
6）在DIFFRAC.SAXS中，對(duì)EIGER2 R 500K通過(guò)2D模式收集的NIST SRM 8011 9nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析。
7）在DIFFRAC.EVA中，對(duì)塑料薄膜進(jìn)行WAXS測(cè)量分析。然后塑料纖維的擇優(yōu)取向便顯而易見(jiàn)了。
8）在DIFFRAC.TEXTURE中，使用球諧函數(shù)和分量方法,生成極圖、取向分布函數(shù)(ODF)和體積定量分析。
9）在DIFFRAC.LEPTOS中，對(duì)多層樣品的薄膜厚度、界面粗糙度和密度進(jìn)行XRR分析。
10）在DIFFRAC.LEPTOS中,對(duì)多層樣品進(jìn)行XRR分析，測(cè)定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。
11）在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行晶片分析:分析晶片的層厚度和外延層濃度的均勻性。
12）憑借RapidRSM技術(shù),您將能在最短的時(shí)間內(nèi),測(cè)量大面積的倒易空間。您可以在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行倒易點(diǎn)陣轉(zhuǎn)換和分析。