生物型原子力顯微鏡

關于JPK NanoWizard 4 XP

1）集高分辨、快速掃描和便捷性于一身

全新的NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM融合閉環(huán)原子級分辨率與 100???μm 掃描器于一體。大范圍掃描器可以在樣品上進行大范圍的精確移動，并直接訪問感興趣的特征區(qū)域。精密的機械工程與先進的電子設備提供了當今市場上無與倫比的穩(wěn)定性與最低的噪音水平，保證了杰出的高性能和可靠的高分辨成像。全新的Vortis?2 控制器采用最新的 FPGA 技術，實現(xiàn)高速的信號處理與控制?？蛇x的快掃功能提供高達150 Hz 線速率的掃描性能。

2）PeakForce Tapping®——高質量成像技術典范

PeakForce Tapping® 技術作為一種滿足您所有需求的成像模式已經贏得了業(yè)界廣泛贊譽。無論是何種樣品、何種環(huán)境，該技術都可以提供卓越的力控制和良好的易用性。該技術可以精確的控制探針與樣品之間的相互作用力，并可以最大程度的降低成像所需的作用力，從而保護探針與樣品，確保穩(wěn)定的、長時間的高分辨成像。

3）杰出的易用性：快速獲取高質量數(shù)據(jù)

JPK最新的 V7 軟件可以優(yōu)化工作流程，幫助加速科學成果產出。簡單直觀的設置可以幫助初學用戶快速上手，獲得可靠且可重復的結果，節(jié)省了寶貴的研究時間。其靈活的工作理念使經驗豐富的用戶可以直接訪問專家功能和高級反饋模式，同時也可以使用一鍵校準和簡化設置以提升產出效率

4）大掃描器快速掃描的新基準

經過驗證的 JPK 快速掃描技術現(xiàn)在已經可以用于NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 平臺。該系統(tǒng)兼具 150 Hz 的線掃描速率與大掃描范圍，可提供前所未有的優(yōu)異性能。它為所有組件提供了最高的帶寬，精確的力控制和快速的反饋。以前的快速掃描受到掃描范圍的限制，只能在很有限的

掃描范圍內才可以實現(xiàn)快速掃描。如今，大掃描范圍下前所未有的掃描速度成為變?yōu)楝F(xiàn)實，消除了 XY 方向大范圍掃描和Z方向大落差掃描的限制。完整的 100 μm×100?μm 橫向掃描范圍仍可以應用最快的測量速度，用戶可以輕松的在樣品特征位置之間切換，而無需重新定位樣品或犧牲成像速度。使用全新的 NestedScanner? 技術，現(xiàn)在可以對高度差最大可達16.5μm 的結構表面進行快速成像。研究人員可以在大起伏或陡峭樣品表面以最高空間時間分辨率進行動態(tài)過程研究。

5）高通量與動態(tài)觀察——材料學研究的利器

快速掃描功能提供了實時高分辨研究所需的速度和準確性，可以幫助理解結晶、生長、熔化、相分離、疇狀結構產生或島結構的形成等現(xiàn)象。JPK 獨特的探針掃描設計，允許使用各種 NanoWizard ® 環(huán)境控制附件，這些附件可以加熱或冷卻樣品，交換氣體或液體，或者對樣品施加外部機械力。

6）擴展測量加快研究進程

快速掃描功能與 ExperimentPlanner? 軟件功能結合使用，基于此用戶可以利用完全兼容的電動載物臺自動的將樣品從一個感興趣的區(qū)域移至下一個感興趣的區(qū)域，從而快測量多個位置并大大提升產出效率。優(yōu)化的視頻制作工具使得數(shù)據(jù)處理比以往任何時候都更加容易。

快速掃描功能的優(yōu)勢

a）提升產出效率：

快速獲取數(shù)據(jù)并對多個區(qū)域進行快速測量

b）使用NestedScanner? 技術

 對高落差或大起伏樣品表面進行快速測量

c）樣品動態(tài)過程實時觀察分析

d）聚合物、薄膜或其他功能材 料的延時觀察與分析

7）多種電學測量模式---對樣品進行電學表征

NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 擁有多種工作模式與附件的支持，工作模式與附件有著易于操作的設計，可滿足研究人員個性化的需求。多種材料材料表征(包括電學表征)可以在密閉樣品池中進行，以實現(xiàn)惰性氣體氣氛環(huán)境下的測量。

a）導電原子力顯微鏡(CAFM)

b）開爾文探針原子力顯微鏡 (KPM AFM)

c）電化學 (EC) 與掃描電化學 (SECM)

d）掃描隧道電流顯微鏡 (STM)

e）基于高級 QI? 模式的掃描熱原子力顯微鏡 (SThM)

f）壓電力響應顯微鏡 (PFM)

g）靜電力顯微鏡（EFM）

h）磁力顯微鏡(MFM)

8）追尋樣品的特征——樣品分析就在彈指之間

a）易用性新標準兼顧質量與效率

全新的V7操作軟件為實驗提供了直觀的工作流程。輕松選擇預定義實驗或最近使用實驗，結合一鍵探針校準，可實現(xiàn)快速的實驗導航與數(shù)據(jù)采集。上下文關聯(lián)的幫助提示，對調整與設置的狀態(tài)實時反饋，可以輕松地獲取有價值的數(shù)據(jù)同時直觀地監(jiān)測關鍵參數(shù)。

b）智能自動化測試加速產出效率

最快也最簡單的導航方式即直接可視化您感興趣的區(qū)域。全新 DirectOverlay?2 提供了即時導航界面，可直接選取掃描器允許范圍內任何的位置進行測量。馬達驅動精密位移樣品臺和 HybridStage? 可以解除AFM掃描器掃描范圍對導航范圍的約束，實現(xiàn)通過電動馬達直接移動到選定的位置。全新的 DirectTiling功能可以自動創(chuàng)建大范圍的光學導航成像，以加速自動化測試過程。MultiScan 功能可以拼接高分辨圖像，已建立樣品的全面概覽。重復性或復雜程序性測試可以使用 ExperimentPlanner?生成宏命令自動執(zhí)行。

c）基于 QI? 模式和力曲線成像模式---強大的定量力學性能分析

高級 QI? 模式使用線性運動的力曲線，可以輕松獲得最佳分辨率的形貌成像，同時獲得力學和電學性質信息。每個像素點包含了對樣品彈性、黏附力、耗散、化學相互作用或導電性進行完整定量分析所需的所有數(shù)據(jù)。軟件擁有強大的批處理功能，全面的擬合設置與具有多種模型的模量擬合功能可提供無與倫比的性能。NanoWizard® 4 XP 同時還提供了快速力曲線成像模式、單分子力譜以及單細胞力譜模式。

全面的納米力學測量模式

a）具有接觸點成像 (CPI) 的高級 QI? 模式

b）RampDesigner? 用于復雜力譜實驗設計

c）快速力曲線成像模式

d）微觀流變學測量

e）摩擦力顯微鏡

f）接觸共振成像

g）高次諧波成像(振幅調制、相位調制以及振幅調制)

h）力調制模式

i）納米壓痕與納米操縱

9）全面的環(huán)境控制方案------為各種高級應用保駕護航

   a）溫度控制配件

   b）電化學配件

   c）小體積樣品池配件

   d）液體/氣體氛圍控制配件用于電學性質表征

10）一款真正的多用途平臺------滿足您持續(xù)增長的需求

a）靈活性與模塊化設計：

現(xiàn)代實驗室研究的基本要求NanoWizard® 系列 AFM 以其模塊化的設計理念而聞名，可最大限度的滿足所有組件的兼容性。AFM 掃描頭可以兼容多代附件、樣品臺與功能模塊，確保能效的延續(xù)性并實現(xiàn)成本經濟的軟硬件功能升級，從而使 NanoWizard® 4 XP 具有極大的靈活性，可以滿足用戶不斷變化的應用需求。NanoWizard® 4 XP 是迄今為止功能最多的 AFM 系統(tǒng)，它提供了完美的光學集成以及最大數(shù)量的功能配件與工作模式，易于升級的特點確保其跟上功能革新與技術發(fā)展

的步伐。

b）簡潔經濟高效的升級方案

*Vortis? 2 控制器或可選的高級 Vortis? 2 控制器

*多種不同的測量頭

*強大的軟件功能模塊

*最大數(shù)量的功能配件與工作模式

c）可在多種模式下施加不同外部刺激------實時控制樣品狀態(tài)

*可施加高壓的壓電力響應顯微鏡 (PFM)

*StretchingStage 施加外部機械荷載

*外加磁場

*電化學實驗(以及掃描電化學顯微鏡)控制液體電勢差

*納米刻蝕與納米操縱實現(xiàn)局部力學控制

*電導原子力顯微鏡實現(xiàn)光刺激

d）樣品訪問與易用性新亮點

*TopViewOptics? 模塊: 用于不透明樣品的位置導航，同時兼容在倒置光學顯微鏡上使用。

*Head-up 樣品臺: 適用于最高可達 14 cm的高大樣品。

*HybridStage: 馬達驅動的樣品掃描結合三軸壓電陶瓷驅動的樣品掃描(z方向不小于 100 μm) 實現(xiàn)樣品大范圍精確定位與樣品掃描。

e）高級光學應用集成

      *倒置光學顯微鏡

                      **寬場與共聚焦 (CLSM) 熒光

                      **光學超分辨技術 (STED, TIRF, PALM / STORM)

                      **熒光光譜技術 (FLIM, FRET, FCS, FRAP ...)

                      **拉曼光譜技術

                      **樣品側視成像 (50倍物鏡)

     *正置光學顯微鏡

                      **正置熒光顯微鏡套件 (UFK)

                      **BioMAT? 生物材料工作站

     *近場光學測量技術(包括 TERS 技術)。