成膜工藝

Picosun R-200系列原子層沉積體統(tǒng)是一款多種能的原子層沉積平臺，是用于研發(fā)的理想選擇，適用于IC器件、MEMS器件、顯示器、led、激光、3D物體如鏡片、光學、珠寶、硬幣、醫(yī)療植入物等數(shù)十種應用的研發(fā)
ULVAC ei-5z系列高真空蒸發(fā)鍍膜設備是一款可同時安裝電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā)源的多功能蒸發(fā)臺，可用于各種金屬、合金、非金屬蒸發(fā)鍍膜，可做垂直入射蒸發(fā)工藝，可做穿墻式設計，采用全自動控制，穩(wěn)定，高效
Centrotherm HORICOO 200 是大量現(xiàn)場驗證及具有超多功能的臥式爐系統(tǒng)，基于客戶需求可靈活選擇大、中批量生產(chǎn)以及研發(fā)類型機臺。為AP、LP和PECVD等多種工藝應用提供了可靠的工藝能力和很高的工藝性能。此外，同一系統(tǒng)不同工藝爐管可以匹配相關設施(大氣、真空或混合)配置不同的工藝
Centrotherm OXIDATOR 150是一種高溫爐，是商先創(chuàng)公司熱解決方案為碳化硅（SiC）的氧化專門設計的