納米紅外光譜儀

Anasys nanoIR3-s 納米掃描近場光學(xué)成像系統(tǒng)
  • 產(chǎn)品品牌: 布魯克 Bruker
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地: 德國
  • 應(yīng)用領(lǐng)域: 聚合物、二維材料、材料科學(xué)、生命科學(xué)和微電子工業(yè)等
  • 產(chǎn)品簡介: 高性能的s-SNOM和AFM成像

布魯克公司是從宏觀、亞微米到納米尺度紅外光譜(nanoIR)領(lǐng)域的世界領(lǐng)導(dǎo)者。在納米尺度下的物理和化學(xué)性質(zhì)等測量方面,我們致力于為聚合物、二維材料、材料科學(xué)、生命科學(xué)和微電子工業(yè)等多個(gè)領(lǐng)域提供創(chuàng)新的產(chǎn)品和解決方案。
Anasys 納米紅外光譜儀(nanoIR) 已被多所知名大學(xué)、國家實(shí)驗(yàn)室和全球領(lǐng)先的化學(xué)/材料公司所采用。憑借高影響力和不斷增長的研究成果,通過廣大客戶的實(shí)際應(yīng)用,納米紅外光譜儀表現(xiàn)出了良好的易用性和高效性。

最高性能的散射式 -SNOM 和 AFM 成像系統(tǒng)

nanoIR3-s系統(tǒng)將散射式近場光學(xué)顯微鏡(s-SNOM)和納米紅外光譜儀(AFM-IR)集成于一臺(tái)原子力顯微鏡(AFM)中,所有功能可在一個(gè)測量平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)。nanoIR3-s系統(tǒng)建立在Anasys的既有技術(shù)之上,并在基于AFM的納米光學(xué)表征領(lǐng)域中具有領(lǐng)先地位,它提供了納米級的紅外光譜分析,化學(xué)成像和具有10 nm空間分辨率的光學(xué)特性成像功能。該系統(tǒng)還支持納米級分辨率的AFM形貌成像和材料物理性質(zhì)成像功能,使其成為用于材料科學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域相關(guān)研究的理想選擇。


nanoIR3-s系統(tǒng)的主要特點(diǎn):

  •  飛秒級寬波帶nano-FTIR光譜
  • 互補(bǔ)的s-SNOM和AFM-IR技術(shù)
  • 具有電學(xué)、力學(xué)和熱學(xué)測試模塊的全功能高分辨的AFM平臺(tái)


納米尺度下互補(bǔ)的成像技術(shù)

1)散射式近場光學(xué)顯微鏡(s-SNOM

s-SNOM 應(yīng)用專利技術(shù)進(jìn)行近場振幅和相位測量,測量過程中可以將探針定位在樣品上的固定位置,并改變光源的波長以提供近場光譜。s-SNOM 的點(diǎn)光譜成像是一項(xiàng)專利技術(shù),由連續(xù)QCL激光器提供近場光譜、近場振幅和相位成像。

2)輕敲模式 AFM-IR

輕敲模式 AFM-IR 利用輕敲模式 AFM 作為傳感機(jī)構(gòu),測量樣品表面的光熱膨脹分布。具體來說,輕敲模式AFM-IR 可以利用輕敲模式下探針懸臂不同的諧振模式來測量光熱膨脹。輕敲模式AFM-IR可以在樣品上施加較低的 AFM 作用力,以實(shí)現(xiàn)更高的化學(xué)成像空間分辨率,對于不同種類的樣品,其分辨率可達(dá)10nm或更低。

3)共振增強(qiáng)型 AFM-IR

共振增強(qiáng)型 AFM-IR 技術(shù)是利用寬帶、脈沖、可調(diào)諧的中紅外激光器自上而下照射樣品實(shí)現(xiàn)的,脈沖激光被樣品選擇性地吸收,引起快速和瞬時(shí)的局部膨脹,并通過AFM 探針的機(jī)械偏轉(zhuǎn)來檢測,得到的紅外吸收光譜可與傅里葉紅外光譜(FTIR)直接對應(yīng)解讀,并可根據(jù)現(xiàn)有的紅外光譜數(shù)據(jù)庫進(jìn)行檢索。

4)力學(xué)性質(zhì)成像,納米熱學(xué)分析和電學(xué)AFM模式

nanoIR3-s還可以提供以洛倫茲接觸共振技術(shù)(LCR)測量AFM懸臂梁的接觸共振頻率,從而繪制樣品的力學(xué)性質(zhì)分布圖。nanoIR3-s 還可以通過納米熱學(xué)分析技術(shù)(nanoTA)在納米空間分辨率下定量測量樣品的熱熔點(diǎn),同時(shí)對樣品微區(qū)進(jìn)行熱性質(zhì)成像(SThM)。此外,nanoIR3-s 還提供了表面電勢測量模塊(KPFM)和導(dǎo)電原子力測量模塊(CAFM)。

Modes

化學(xué)成像模式

輕敲模式AFM-IR; 快速光譜(AFM-IR);

快速成像 (AFM-IR); 全像素三維成像模

式;近場光學(xué)模式

AFM模式

 

標(biāo)準(zhǔn)工作模式:Contact; Tapping; Force

Curve; Lateral Force

可選工作模式: NanoTA; SThM; LCR;

CAFM; KPFM

主要可選激光器

POINTspectra

QCL Laser

6 or 4 chip continuous wave/pulsed with 950-1900cm-1 range for s-SNOM and AFM-IR

Single/Multiple

Chip QCL Laser

Single or multi-chip continuous wave/pulsed with different spectral ranges for s-SNOM

CO2 Laser  

For use with s-SNOM

Visible 632.8 nm

HeNe Laser

10 mw and optics package for

integration into nanoIR3-s

1550 nm NIR Diode Laser

5 mw and optics package for integration into nanoIR3-s

AFM 主要技術(shù)參數(shù)

Z方向噪音水平  

<75pm RMS

XY 掃描范圍

 50 μm x 50 μm

Z 掃描范圍  

>6 μm

掃描分辨率

 ≤1024 x 1024 pixels

XY 移動(dòng)樣品臺(tái)  

Flexure with capacitive closed-loop sensing

針定位準(zhǔn)確性   

±10 nm

樣品尺寸和移動(dòng)范圍

樣品尺寸

<25 mm dia max

樣品高度

<10 mm max

樣品臺(tái)移動(dòng)尺寸(XY)

8 x 8 mm motorized

樣品臺(tái)移動(dòng)尺寸(Z)

>5 mm motorized

光學(xué)顯微鏡參數(shù)

照明模式

 光照明場

CCD 分辨率

1.5 μm 5MP

數(shù)字放大

3X

物鏡

10X

可視場范圍

 ~900 x 600 μm max;

~450 x 300 μm min