衍射儀和散射系統(tǒng)
- 產(chǎn)品品牌: 布魯克 Bruker
- 產(chǎn)品產(chǎn)地: 德國
- 應用領域: 水泥業(yè)、材料屬性、礦物與采礦、石油和天然氣等
- 產(chǎn)品簡介: 是極佳的多功能X射線衍射儀平臺,可為您提供業(yè)內(nèi)領先的技術(shù)組件，旨在幫助您對從粉末、多晶材料到外延多層薄膜的各種材料進行結(jié)構(gòu)表征
布魯克公司全新的D8 DISCOVER X射線衍射儀，材料研究領域的先進X射線衍射系統(tǒng)。采用創(chuàng)造性的達芬奇設計，配備了集成化的DIFFRAC.SUITETM軟件，附件自動識別、即插即用以及完全集成化的二維XRD2功能。這些特征使得用戶可以非常方便的在材料研究領域的不同應用之間切換，包括：反射率測量(XRR)、高分辨測量(HRXRD)、掠入射(GID)、面內(nèi)掠入射(IP-GID)、小角散射(SAXS)以及殘余應力和織構(gòu)分析。
主要應用
高分辨XRD(HRXRD)
外延多層膜厚度
晶胞參數(shù)
晶格錯配
組份
應變及弛豫過程
橫向結(jié)構(gòu)
鑲嵌度
X射線反射率(XRR)
薄膜厚度
組份
粗造度
密度
孔隙度
倒易空間圖譜(RSM)
晶胞參數(shù)
晶格錯配
組份
取向
弛豫
橫向結(jié)構(gòu)
面內(nèi)掠入射衍射 (in-plane GID)
掠入射小角X射線散射(GISAXS)
晶胞參數(shù)
晶格錯配
橫向關聯(lián)性
取向
物相組成
孔隙度
應力和織構(gòu)分析
取向分布
取向定量
應變
外延關聯(lián)
硬度
物相鑒定(Phase ID)
物相組成
d值確定
擇優(yōu)取向
晶格對稱性
晶粒大小
D8 DISCOVER 規(guī)格 | ||
| 規(guī)格 | 優(yōu)勢 |
TWIST-TUBE | 輕松在點焦點和線焦點之間切換 可用陽極材料：Cr、Cu、Mo、Ag 最高功率和燈絲：最高3 kW，取決于陽極材料（0.4 x 16mm2） 專利：EP 1 923 900 B1 | 快速改變波長，以理想地匹配不同應用
可以最快的速度在線焦點和點焦點之間極快切換，因此擴展了應用范圍，并且可在更短的時間內(nèi)，獲得更好的結(jié)果。 |
IμS微焦源 | 功率負載：最高50 W，單相功率； MONTEL和MONTEL Plus光學器件：結(jié)合了平行鏡和聚焦鏡； 光束尺寸：低至180 x 180 μm2 鏡出口最大積分通量：8 x 10? cps； 光束發(fā)散度：低至0.5 mrad | 毫米大小的光束：高亮度和超低背景； 綠色環(huán)保設計：低功耗、無耗水、使用壽命更長； 優(yōu)化光束形狀和發(fā)散，以獲得最佳結(jié)果；
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Turbo X射線源（TXS） | 線焦點：0.3x3mm2； 焦點亮度：6 kW /mm2； 陽極材料：Cu、Co、Cr、Mo； 最大電壓50 kV，功率取決于陽極材料：Cr ：3.2 kW；Cu / Mo：5.4 kW；Co：2,8 kW； 預對準鎢絲 | 強度是標準陶瓷X射線源的5倍； 是線焦點和點焦點應用的理想之選； 預對準的燈絲支持快速更換，極大地降低了對重新對準的要求。 |
TRIO Optics | 軟件按鈕切換： 電動發(fā)散狹縫（Bragg-Brentano）； 高強度Ka1,2平行光束； 高分辨率Ka1平行光束； 專利：US10429326、US6665372、US7983389 | 可在多達6種不同的光束幾何之間進行全自動化電動切換，無需人工干預； 是所有類型的樣品的理想之選，包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延） |
高分辨率單色器 | 對稱幾何和非對稱幾何中的Ge（220）和Ge（004）反射； 2-b和4-b（Bartels型）單色器； 利用SNAP.LOCK技術(shù)，進行免對準安裝。 | 在最佳分辨率與強度平衡方面，為您提供廣泛選擇，助您獲取最佳結(jié)果； 可快速更換單色器，針對不同樣品進行優(yōu)化 |
D8測角儀 | 帶獨立步進電機和光學編碼器的雙圓測角儀 | 布魯克獨有的準直保證，確保了無與倫比的準確性和精確度； 絕對免維護的驅(qū)動機構(gòu)/齒輪裝置，終身潤滑 |
UMC樣品臺
| 樣品臺系列 x、y：最大+/- 150 mm的樣品移動； z：最大移動50mm； Phi：旋轉(zhuǎn)不受限制； Psi：傾斜度最高55°； 最大承載重量（中心位置）：50kg | 在樣品的重量和尺寸方面，擁有無與倫比的優(yōu)勢； 可實現(xiàn)大型定制樣品室的實施 |
Centric Eulerian Cradle (CEC) | 樣品臺：5個自由度 x、y：+/- 40 mm樣品移動 z：高度對準 Phi：360°旋轉(zhuǎn) Psi：-11°-98° 最高承載重量：1kg 提供各種樣品臺附件。 | 側(cè)面傾斜時可進行應力和織構(gòu)測量，以獲取更高的精度。 （x，y）：自動映射功能。 電動傾斜臺：可精確調(diào)整表面。 粉末或毛細管旋轉(zhuǎn)器：可用于粉末衍射。 Bayonette樣品臺支持器：可與其他樣品臺快速、可重復地互換。 |
Pathfinder Plus Optics | 軟件按鈕切換： 電動狹縫 2-b Ge分析晶體 集成自動吸收器 | 可在兩種不同的光學器件之間全自動地進行電動切換，無需人工干預。 保持了LYNXEYE探測器的完整視野。 利用吸收器，確保了測得數(shù)據(jù)的線性。 |
LYNXEYE XE-T | 能量分辨率： 8 KeV時，<380 eV 檢測模式：0D、1D、2D 波長：Cr、Co、Cu、Mo和Ag 專利：EP1647840、EP1510811、US20200033275 | 無需K?過濾器和二級單色器 銅輻射即可100％過濾鐵熒光 速度比傳統(tǒng)探測器系統(tǒng)快450倍 Bragg2D：使用發(fā)散的初級線束收集2D數(shù)據(jù) 獨一無二的探測器保修：交貨時絕無不良通道 |
EIGER2 | Dectris Ltd.開發(fā)的基于混合光子計數(shù)技術(shù)的新一代探測器，支持多種模式（0D / 1D / 2D）。 | 在分步掃描、連續(xù)掃描和高級掃描模式中無縫集成0D、1D和2D檢測。 符合人體工程學的免對準探測器旋轉(zhuǎn)功能，可優(yōu)化γ或2?角度范圍 使用完整的探測器視野、免工具全景衍射光束光學系統(tǒng) 連續(xù)可變的探測器位置，以平衡角度范圍和分辨率 |
非環(huán)境 | 溫度：范圍從~-4 K到~2500 K 壓力：10-?mbar至100 bar 濕度：5％至95％ | 在環(huán)境和非環(huán)境條件下進行調(diào)查 憑借DIFFRAC.DAVINCI，輕松更換樣品臺 |
相關應用圖片
1）在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進行測量,對鋼構(gòu)件的殘余應力進行分析。
2）使用DIFFRAC.EVA,測定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過積分2D圖像,進行1D掃描,來進行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。
3）候選材料鑒別(PMI)最為常見,這是因為其對原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無法通過元素分析技術(shù)實現(xiàn)。
4）在DIFFRAC.EVA中,進行半定量分析,以顯示孔板上不同相的濃度。
5）在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同步，然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結(jié)果。
6）在DIFFRAC.SAXS中，對EIGER2 R 500K通過2D模式收集的NIST SRM 8011 9nm金納米顆粒進行粒度分析。
7）在DIFFRAC.EVA中，對塑料薄膜進行WAXS測量分析。然后塑料纖維的擇優(yōu)取向便顯而易見了。
8）在DIFFRAC.TEXTURE中，使用球諧函數(shù)和分量方法,生成極圖、取向分布函數(shù)(ODF)和體積定量分析。
9）在DIFFRAC.LEPTOS中，對多層樣品的薄膜厚度、界面粗糙度和密度進行XRR分析。
10）在DIFFRAC.LEPTOS中,對多層樣品進行XRR分析，測定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。
11）在DIFFRAC.LEPTOS中,進行晶片分析:分析晶片的層厚度和外延層濃度的均勻性。
12）憑借RapidRSM技術(shù),您將能在最短的時間內(nèi),測量大面積的倒易空間。您可以在DIFFRAC.LEPTOS中,進行倒易點陣轉(zhuǎn)換和分析。