Dimension Icon 原子力顯微鏡

Bruker Dimension® Icon? 原子力顯微鏡為工業(yè)界和科研界納米領域的研究者帶來了全新的應用體驗，具有高水平的性能、功能和配件選擇， 其測試功能強大，操作簡便易行。齊集 Dimension系統(tǒng)數(shù)十年的技術經(jīng)驗，廣大客戶反饋，結(jié)合工業(yè)領域的設備需求， Dimension Icon進行了全面革新。全新的系統(tǒng)設計，實現(xiàn)了前所未有的低漂移和低噪音水平?，F(xiàn)在，用戶只需要幾分鐘就可獲得真實準確的掃描圖像。

一、亮點

1）終極性能------探針掃描式掃描器

獨特的傳感器設計，在閉環(huán)條件下，也能實現(xiàn)開環(huán)噪聲級別的大樣品高分辨率掃描成像，熱漂移速率低于200 pm

2）操作簡單易用------無以倫比的效率

提供簡單、直觀的操作流程，以快速實現(xiàn)發(fā)表級數(shù)據(jù)的獲取。

3）優(yōu)秀的多功能性------多功能的配件選擇

適合廣泛的實驗、模式、技術和半自動測量。

二、特點

1）特征------高性能和高分辨率

Dimension® Icon?優(yōu)秀的分辨率，與 Bruker 特有的電子掃描算法相結(jié)合，顯著提升了測量速度與質(zhì)量。Dimension® Icon?是針尖掃描技術的最新革新，一直處于領先地位。該系統(tǒng)配置溫度補償位置傳感器，實現(xiàn)了 Z 軸亞埃級和 XY 軸埃級的低噪音水平，將這個性能應用在 90 微米掃描范圍、大樣品臺系統(tǒng)上，效果甚至超過高分辨率原子力顯微鏡的開環(huán)噪音水平。XYZ 閉環(huán)掃描頭的新設計使儀器在較高掃描速度工作時，圖像質(zhì)量也不會被損壞，實現(xiàn)了更大的數(shù)據(jù)采集輸出量。配置Bruker 專利的PeakForce®技術，Dimension Icon可實現(xiàn)智能獲取高分辨圖像。

2）卓越表現(xiàn)

Dimension Icon原子力顯微鏡已成為研究領域最受歡迎的原子力顯微鏡型號之一， 使用Dimension Icon發(fā)表文章的數(shù)目遠比其他大樣品臺AFM要多。Dimension Icon 在原有的操作平臺上引入最新技術，展現(xiàn)出更高的性能和更快的測量速度。其軟件直觀的工作流程，使其操作過程比以往最先進的AFM 技術更加簡便。Dimension Icon用戶無需像以前一樣，通常需要幾小時的專業(yè)參數(shù)調(diào)整，即可立即獲得高質(zhì)量的測量結(jié)果。Dimension Icon 的每個方面，從完全開放式針尖樣品空間，到軟件參數(shù)預設置，都經(jīng)過特殊設計以求達到無障礙操作和驚人的AFM 易用性。

3）靈活的AFM平臺

Dimension Icon 展現(xiàn)出了的無與倫比的性能，穩(wěn)定性和靈活性，幾乎可以實現(xiàn)以前只有在特制系統(tǒng)中才能完成的所有測量。利用開放式平臺，大型或多元樣品支架和許多簡單易用的性能，把AFM 的強大功能完全展現(xiàn)在科研領域和工業(yè)領域的研究者面前，為高質(zhì)量AFM成像和納米操作設定了新的標準。

Dimension Icon 提供對性能沒有任何影響的靈活性平臺， 一個平臺，無限可能：

開放的平臺，能整合其他技術,
開放的軟件和硬件，能輕松定制您的研究應用 - "如果它不存在， 就發(fā)明它"
電池、有機太陽能等研究的完整解決方案

三、應用

AFM 模式------用AFM拓展您的應用

憑借一整套出色的AFM成像模式，布魯克能為您每項研究提供適用的 AFM 技術。

基于核心成像模式（接觸模式和輕敲模式），布魯克提供的全套 AFM測試模式，允許用戶探測樣品的電學、磁性等豐富性能。布魯克獨創(chuàng)的全新的峰值力輕敲技術作為一種新的核心成像模式，已被應用到多種測量模式中，能同時提供形貌、電學和力學性能數(shù)據(jù)。

四、Dimension Icon數(shù)據(jù)示例

1）輕敲(Tapping)模式中的syndiotactic polypropylene閉環(huán)成像。掃描范圍: 5um。

2）Syndiotactic polypropylene結(jié)晶動力學研究:本體聚合物從室溫(左)快速加熱至1600℃的完全熔化·狀態(tài)。128℃時,促進了等溫結(jié)晶的平衡,并形成比原始層狀晶體更大的晶體。右圖顯示101分鐘的部分結(jié)晶圖像。

3）空氣中DNA的輕敲模式閉環(huán)圖像。掃描范圍: 2um,掃描速率: 4.88Hz。

4）HOPG上C36H74烷的AFM圖像。清晰可見的片層結(jié)構(gòu)間距,與完全擴展C36H74鏈構(gòu)象下的長度間距(±4.5nm)一致。

5）使用TR-TUNA模式對金圖案化硅基底上分散的單壁碳形貌和導電性同時成像。掃描范圍: 1um。

6）壓電薄膜材料上Dimension Icon loge刻蝕圖案的壓電響應力顯微鏡(PFM)振幅圖像。顯示lcon探針在刻蝕過程中的精確XY定位控制。掃描范圍: 20um

7）Harmonix黏附力成像顯示毛細力相互作用。

8）HOPG上C36H74烷的閉環(huán)、高分辨率AFM圖像。掃描范圍: 100nm