納米壓印光刻

EVG 610（NIL）納米壓印系統(tǒng)
  • 產(chǎn)品品牌: 奧地利 EVG
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地: 奧地利
  • 應(yīng)用領(lǐng)域:
  • 產(chǎn)品簡介: EVG 610（NIL）是一款基于EVG610光刻機(jī)的紫外納米壓印設(shè)備，可針對壓印、光刻、對準(zhǔn)功能進(jìn)行快速轉(zhuǎn)換

產(chǎn)品簡介：

EVG 610（NIL）是一款基于EVG610光刻機(jī)的紫外納米壓印設(shè)備，可針對壓印、光刻、對準(zhǔn)功能進(jìn)行快速轉(zhuǎn)換。

主要特點及參數(shù)：

·最大支持6英寸（150mm）晶圓

·最高分辨率可達(dá)40nm（取決于模版和工藝條件）

·支持汞燈或最新的UV-LED光源

·可選配功能：

鍵合對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻（NIL）

微接觸印刷